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摘要:
Incident ion distribution inside a rectangular hollow cathode in a uniform magnetic field is studied analytically.The analysis shows that the ion distribution on one sidewall is not interfered by the other sidewall when the depth and width of the cathode are equal, and the ion distribution on the bottom surface related to the depth of the cathode and the number of ions on the bottom surface decrease monotonically from the centre to the sidewall.
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篇名 Calculation of incident ion distribution in a rectangular hollow cathode in magnetic field
来源期刊 中国物理(英文版) 学科
关键词 hollow cathode discharge incident ion distribution magnetic field
年,卷(期) 2005,(7) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1423-1427
页数 5页 分类号
字数 语种 英文
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hollow cathode discharge
incident ion distribution
magnetic field
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中国物理B(英文版)
月刊
1674-1056
11-5639/O4
北京市中关村中国科学院物理研究所内
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