计算机光学元件的制作及新应用

• 作者: 李慎 杜诗研 邹凯
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 工学
• 关键词: 计算机光学元件 灰度掩模 刻蚀法 激光直写
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 理论与研究
• 页码范围: 27-31,8
• 页数: 6页
• 分类号: TP3
• 字数: 4615字
• 语种: 中文

摘要

论述计算机光学元件制作的方法,着重介绍了灰度掩模技术,反应离子束刻蚀法和激光直写技术,并且说明了其在空间聚焦器上和激光雷达上的新应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹凯	泸州医学院物理教研室	2	10	1.0	2.0
5	李慎	电子科技大学物理电子学院	8	31	4.0	5.0
6	杜诗研	电子科技大学物理电子学院	4	26	2.0	4.0