工艺参数对AZ91C镁合金生成微弧氧化膜层的影响

• 作者: 刘惠文 徐洮 梁军 田军 郭宝刚
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 氧化膜 反应时间 电流密度
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 262-265
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 3268字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2005.02.028

摘要

用微弧氧化方法在硅酸钠-氢氧化钾电解液体系中制备得到了镁合金氧化膜.考察了反应时间和电流密度对生成氧化物膜层的影响.结果表明:膜层的生长速度与反应时间密切相关,膜层总厚度随反应时间的延长而增加.反应开始阶段,膜向外生长速率大于向基体内氧化速率,一定时间后,膜层增厚以向内生长为主.电流密度对膜层厚度有显著影响,随电流密度增大,膜层厚度呈近似线性增加,表面粗糙度也随之增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田军	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	53	1167	23.0	31.0
2	刘惠文	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	26	376	13.0	19.0
3	徐洮	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	75	815	16.0	23.0
4	梁军	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	48	593	14.0	22.0
5	郭宝刚	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	4	98	4.0	4.0