纳米Cu3 N薄膜的制备与性能

• 作者: 吴志国 张伟伟 王君 白利峰 阎鹏勋
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化铜薄膜 多弧直流磁控溅射 立方反ReO3结构
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 1687-1692
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 4775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.04.039

摘要

采用柱状靶多弧直流磁控溅射法,100℃基底温度下在玻璃衬底上制备了纳米氮化铜(Cu3N)薄膜.用x射线衍射研究了不同氮气分压对Cu3N薄膜晶体结构及晶粒尺寸的影响.结果显示薄膜由Cu3N和Cu的纳米微晶复合而成,其中Cu3N纳米微晶具有立方反ReO3结构.通过原子力显微镜对薄膜表征显示,膜表面比较光滑,具有较低的粗糙度.x射线光电子能谱对薄膜表面的成分分析表明,Cu3N薄膜表面铜元素同时以+1价和+2价存在.Cu3N的Cu2p3/2,Cu2p1/2及Nls峰分别位于932.7,952.7和399.9 eV,Cu2p原子自旋-轨道耦合裂分能量间距为20eV.用台阶仪和四探针方法测量了薄膜的厚度及电阻率,薄膜的沉积速率和电阻率在很大程度上受到氮气分压的调制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王君	兰州大学等离子体与金属材料研究所	31	381	10.0	19.0
2	吴志国	兰州大学等离子体与金属材料研究所	14	187	8.0	13.0
3	阎鹏勋	兰州大学等离子体与金属材料研究所	8	142	7.0	8.0
4	张伟伟	兰州大学等离子体与金属材料研究所	11	120	6.0	10.0
5	白利峰	兰州大学等离子体与金属材料研究所	1	37	1.0	1.0