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摘要:
Three-dimensional micro- and nanometre composite aluminium patterns are constructed on Al substrate by using photolithography, reactive ion etching and anodization. A layer of patterned SiO2 mask is introduced as resist on the surface of Al foil, and during anodization the tilted nanopores and remaining Al microstructure are formed underneath the SiO2 mask. The existence of SiO2 mask leads to the deflection of electric field and effect on the transportation of ions, which results in the formation of laterally tilted nanopores, while the nanopores go down directly when being far from the boundaries of SiO2. The vertical and lateral anodization processes proceeding simultaneously construct the Al microstructure under the patterned SiO2 mask.
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文献信息
篇名 Three-dimensional micro- and nanometre composite aluminium patterns
来源期刊 中国物理(英文版) 学科
关键词 anodization micro-machine pattern
年,卷(期) 2005,(7) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1471-1476
页数 6页 分类号
字数 语种 英文
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anodization
micro-machine
pattern
研究起点
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期刊影响力
中国物理B(英文版)
月刊
1674-1056
11-5639/O4
北京市中关村中国科学院物理研究所内
eng
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17050
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