硅基场发射阴极材料研究进展

• 作者: 富笑男 李新建
• 来源期刊: 科学技术与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 硅基场致发射阴极材料 硅尖锥形阴极阵列 场发射
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 165-173
• 页数: 9页
• 分类号: O462.4|TB383
• 字数: 7562字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1815.2005.03.010

摘要

场发射显示技术在原理上具有多种优越性能,可能在未来平板显示技术中居主导地位.硅基场发射阴极易于与其周边驱动电路实现集成,因而更具有明显的开发前景.在综述硅基场发射阴极材料最新研究进展的基础上,就其所面临的问题、可能的解决方案和未来的发展趋势做出了评述.