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摘要:
在高精度椭偏仪(HPE)系统中,采用激光照射硅锗合金衬底助氧化的新方法,在SiO2层中生成锗的双纳米面结构;并在样品生长过程中,用HPE同步测量样品的纳米结构. 用Raman光谱仪测量样品的横断面,发现很强的PL发光谱峰. 用量子受限模型和改进的量子从头计算(UHFR)方法分析了PL光谱的结构.
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文献信息
篇名 激光照射下的低温氧化生成锗的纳米结构及其特性
来源期刊 物理学报 学科
关键词 高精度椭偏仪 锗的纳米结构 PL光谱 量子受限
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 972-976
页数 5页 分类号
字数 3348字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.02.081
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘世荣 中国科学院地化所电镜室 38 338 10.0 17.0
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研究主题发展历程
节点文献
高精度椭偏仪
锗的纳米结构
PL光谱
量子受限
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期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
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