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摘要:
利用分子动力学方法模拟计算了单晶铜中纳米孔洞在沿〈111〉晶向冲击加载下增长的早期过程。计算模拟了一个典型的对称碰撞过程,预置的初始球形孔洞大小约为φ1.3nm。测量不同活塞速度下各个参数的值如表一所示。从表1可以看出,在确定的冲击强度(活塞速度)下,等效孔洞半径随时间近似成线性变化,其增长速率会随着冲击强度的增加而增加,在活塞速度从0.4nm/ps增加到0.425nm/ps时,增长速率有比较明显的增大。
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文献信息
篇名 〈111〉晶向冲击加载下单晶铜中纳米孔洞增长的早期动力学行为
来源期刊 中国工程物理研究院科技年报 学科 物理学
关键词 纳米孔洞 冲击加载 单晶铜 动力学行为 早期 晶向 分子动力学方法 活塞速度
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 33-34
页数 2页 分类号 O347.3
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研究主题发展历程
节点文献
纳米孔洞
冲击加载
单晶铜
动力学行为
早期
晶向
分子动力学方法
活塞速度
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研究来源
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中国工程物理研究院科技年报
年刊
四川省绵阳市919信箱805分箱
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