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摘要:
在HgCdTe光伏探测器件SiO2+ZnS复合介质膜钝化中,引入O+2清洗和Ar+刻蚀两种等离子体处理工艺,大大提高薄膜附着力,成功制备出优良的光伏器件.对处理前后的样品进行场发射扫描电子显微镜扫描、原子力显微镜扫描和二次离子质谱测试后发现,O+2清洗对去除样品表面的残余光刻胶效果显著;而Ar+刻蚀使ZnS表面更为粗糙,增加了成核中心,使SiO2和ZnS表面互相渗透,增强了两层介质膜的附着力.
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文献信息
篇名 HgCdTe光伏器件多层钝化膜等离子体处理的研究
来源期刊 光学仪器 学科 工学
关键词 O+2清洗 Ar+刻蚀 钝化 HgCdTe光伏探测器
年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目 沉积技术与控制方法
研究方向 页码范围 56-59
页数 4页 分类号 TN304.2
字数 2032字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-5630.2006.04.012
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研究主题发展历程
节点文献
O+2清洗
Ar+刻蚀
钝化
HgCdTe光伏探测器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学仪器
双月刊
1005-5630
31-1504/TH
大16开
上海市军工路516号381信箱
1979
chi
出版文献量(篇)
2397
总下载数(次)
9
总被引数(次)
11659
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