镁合金微弧氧化膜层形成过程探讨

• 作者: 刘江文 李文芳 罗承萍 陈显明
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 膜层 模型 生长
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 14-18,21
• 页数: 6页
• 分类号: TG1
• 字数: 3479字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2006.05.003

摘要

对镁合金微弧氧化膜层的形成过程以及形成过程中的工艺影响因素做进一步的探讨,得出微弧氧化膜层的形成是一种亚单层生长模型,它是"成膜→击穿→熔化→烧结→再成膜……"的多次循环过程.并且微弧氧化先期形成的主要是致密层,疏松层则主要是在后期形成.还研究了成膜电压、电流、电解液体系等工艺参数与膜层生成的关系,发现电压越高,得到的膜层越厚,而电流在20A/dm2的电流密度下生成的薄膜具有较好的质量和性能,还发现在硅酸盐体系中形成的膜层在质量还是性能方面优于铝酸盐和磷酸盐体系中形成的膜层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文芳	华南理工大学机械工程学院	157	1463	20.0	30.0
2	刘江文	华南理工大学机械工程学院	59	918	16.0	28.0
3	罗承萍	华南理工大学机械工程学院	80	1286	19.0	33.0
4	陈显明	华南理工大学机械工程学院	3	131	3.0	3.0