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ZnO Films Fabricated Using RF Magnetron sputtering and Their Modification Under High Energy Xe Ion Irradiations
ZnO Films Fabricated Using RF Magnetron sputtering and Their Modification Under High Energy Xe Ion Irradiations
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | ZnO Films Fabricated Using RF Magnetron sputtering and Their Modification Under High Energy Xe Ion Irradiations | ||
| 来源期刊 | 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版 | 学科 | 化学 |
| 关键词 | 氧化锌薄膜 无线电频率磁电管溅射 改性 氙 离子照射 | ||
| 年，卷（期） | 2006,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 59-60 | |
| 页数 | 2页 | 分类号 | O614.241 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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氧化锌薄膜
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改性
氙
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期刊影响力
近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报：英文版
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兰州31号信箱中国科学院近代物理研究所出版发行社社址:北京市海淀区阜成路43号(100037)
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1640
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