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摘要:
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采用Ag-Cu-Ti钎料真空钎焊SiO2f/SiO2复合陶瓷与C/C复合材料
SiO2f/SiO2复合陶瓷
C/C复合材料
Ag-Cu-Ti
界面反应层
抗剪强度
SiO2f/SiO2复合材料与TC4,Ti3Al和TiAl的钎焊
SiO2f/SiO2复合材料
AgCuTi
TC4
Ti3Al
TiAl
考虑C-SiO2反应的新型硅基材料烧蚀分析模型
复合材料
烧蚀
化学反应
气体组分浓度
数值模拟
树脂含量
Al-TiO2-C-Ti-Fe体系反应过程研究
燃烧合成
Al-TiO2-C-Ti-Fe体系
反应动力学
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 XRD Investigation of Ti/c-SiO2 Interface after Pb-ion Irradiation
来源期刊 近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版 学科 化学
关键词 二氧化硅 铅离子照射 磁电管反应溅射法
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 64
页数 1页 分类号 O613.72
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二氧化硅
铅离子照射
磁电管反应溅射法
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期刊影响力
中国科学院近代物理研究所和兰州重离子研究装置年报:英文版
年刊
兰州市城关区南昌路509号
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