InSb抛光片表面粗糙度分析

• 作者: 刘承霖 刘玉岭 张伟 贾英茜
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 锑化铟 粗糙度 化学机械抛光
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 592-594
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.23|TN305.2
• 字数: 2230字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2006.12.008

摘要

研究了影响InSb抛光片表面的粗糙度的因素,通过实验数据及理论分析,用化学机械抛光的方法有效的降低了InSb抛光片表面的粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学微电子所	263	1540	17.0	22.0
2	贾英茜	河北工业大学微电子所	13	100	6.0	9.0
3	张伟	河北工业大学微电子所	50	256	10.0	12.0
4	刘承霖	河北工业大学微电子所	4	31	3.0	4.0