等离子体腐蚀去胶的探讨

• 作者: 付强 王中文
• 来源期刊: 辽宁大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体 等离子体腐蚀 自由基
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 232-234
• 页数: 3页
• 分类号: TN386.1
• 字数: 2672字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5846.2006.03.012

摘要

首先介绍等离子体腐蚀与采用湿法腐蚀相比所具有的优点,并且在简化工艺流程和缩短工艺周期方面作出细致的说明; 对氧气流量为0.05 L/min～0.5 L/min时腐蚀光刻胶的整个过程中的腐蚀现象进行了描述,绘制出了腐蚀速率曲线图,并进行了理论分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王中文	辽宁大学物理系	18	108	6.0	9.0
2	付强	辽宁大学物理系	12	33	3.0	5.0