Nd(Tb,Dy)Co/Cr薄膜的磁性能与磁光性能

• 作者: 晋芳 李佐宜 林更琪 程伟明
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 垂直磁各向异性 矫顽力 克尔旋转角
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: TM271
• 字数: 2188字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2006.04.002

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了Nd(Tb,Dy)Co/Cr薄膜.X射线衍射仪分析结果表明溅射制得的Nd(Tb,Dy)Co薄膜为非晶结构.振动样品磁强计(VSM)测试结果显示NdTbCo薄膜垂直膜面方向矫顽力与剩磁矩形比分别达到308.8 kA/m和0.732,而平行膜面方向矫顽力与剩磁矩形比分别仅为22.3 kA/m和0.173,这表明NdTbCo薄膜具有垂直磁各向异性.随着Nd掺杂量的增加,Nd(Tb,Dy)Co薄膜的矫顽力逐渐降低,克尔旋转角与反射率则逐渐升高.(NdxTb1-x)31Co69的克尔旋转角和反射率分别从x=0的0.272 0°,0.261 6,上升到x=0.338的0.325 8°,0.332 0.(NdxDy1-x)33Co67的克尔旋转角和反射率分别从x=0.210的0.276 1°,0.305 4,上升到了x=0.321的0.323 1°,0.397 4.Nd掺杂量对克尔旋转角的影响可用Nd(Tb,Dy)Co的亚铁磁结构进行解释.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程伟明	华中科技大学电子科学与技术系	14	52	4.0	6.0
2	林更琪	华中科技大学电子科学与技术系	26	85	4.0	7.0
3	李佐宜	华中科技大学电子科学与技术系	59	267	7.0	13.0
4	晋芳	华中科技大学电子科学与技术系	12	53	4.0	6.0