溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响

• 作者: 张榕
• 来源期刊: 上海海事大学学报
• 关键词: FeSiAl 薄膜 直流磁控溅射 溅射功率
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 基础科学
• 页码范围: 89-92
• 页数: 4页
• 分类号: O469
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-9498.2004.04.021

摘要

对在溅射状态下制得的FeSiAl薄膜的结构和磁性能随溅射工艺参数如溅射功率、溅射气压、靶间距等的变化规律进行了讨论与分析.实验结果表明,溅射态下的FeSiAl薄膜具有(220)织构bcc-α无序相,其4πMs可以达到9.9×106 A/m(9.9 kGs).较高的溅射功率、合适的溅射Ar气压以及靶间距都有利于降低薄膜的矫顽力Hc.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张榕	上海海事大学基础教学部	3	28	2.0	3.0