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原文服务方: 上海海事大学学报       
摘要:
对在溅射状态下制得的FeSiAl薄膜的结构和磁性能随溅射工艺参数如溅射功率、溅射气压、靶间距等的变化规律进行了讨论与分析.实验结果表明,溅射态下的FeSiAl薄膜具有(220)织构bcc-α无序相,其4πMs可以达到9.9×106 A/m(9.9 kGs).较高的溅射功率、合适的溅射Ar气压以及靶间距都有利于降低薄膜的矫顽力Hc.
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综述
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响
来源期刊 上海海事大学学报 学科
关键词 FeSiAl 薄膜 直流磁控溅射 溅射功率
年,卷(期) 2004,(4) 所属期刊栏目 基础科学
研究方向 页码范围 89-92
页数 4页 分类号 O469
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-9498.2004.04.021
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1 张榕 上海海事大学基础教学部 3 28 2.0 3.0
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FeSiAl 薄膜
直流磁控溅射
溅射功率
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上海海事大学学报
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1672-9498
31-1968/U
大16开
1979-01-01
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