FeSiAl合金磁性薄膜的制备与研究

• 作者: 任洪梅 张榕 裔国瑜 阎明
• 来源期刊: 上海海事大学学报
• 关键词: FeSiAl薄膜 直流磁控溅射 热处理
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 页码范围: 378-380,384
• 页数: 4页
• 分类号: O469
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-9498.2003.04.019

摘要

用X-射线衍射,扫描电子显微镜研究了直流磁控溅射法制备的FeSiAl合金薄膜.用振动样品磁强计测量了薄膜的磁性能.主要研究了热处理对薄膜的结构和磁性能的影响.结果表明随着退火温度的升高,薄膜的X衍射峰(220)逐步尖锐化,矫顽力不断减小,磁性能有了较大的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任洪梅	上海海运学院基础科学部	2	18	2.0	2.0
2	张榕	上海海运学院基础科学部	2	18	2.0	2.0
3	阎明	上海海运学院基础科学部	4	24	3.0	4.0
4	裔国瑜	上海海运学院基础科学部	1	8	1.0	1.0