微波铁氧体器件薄膜的制备及性能研究

• 作者: 刘建 徐军明 杨已青 武军 秦会斌 胡冀 郑梁
• 来源期刊: 杭州电子科技大学学报（自然科学版）
• 关键词: 铁氧体薄膜 磁控溅射 矫顽力
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TM271.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9146.2010.05.001

摘要

该文采用RF磁控溅射工艺制备了射频薄膜电感用的铁氧体薄膜.为了降低铁氧体薄膜在高频下的涡流损耗、剩余损耗等,通过对铁氧体材料的磁特性分析,研究了不同的温度、成分掺杂对铁氧体磁性能的影响,获得了矫顽力为5.619 6Guss的铁氧体薄膜,并采用SEM、XRD对铁氧体薄膜表面结构进行了表征,采用VSM对薄膜磁性能进行了测试.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘建	杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所	4	5	2.0	2.0
2	秦会斌	杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所	237	1329	17.0	25.0
3	郑梁	杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所	35	114	5.0	9.0
4	胡冀	杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所	10	39	3.0	6.0
5	杨已青	杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所	8	14	2.0	3.0
6	武军	杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所	5	3	1.0	1.0