高分辨等离子体质谱法直接测定高纯镓中的痕量元素

• 作者: 唐有根 聂西度 谢华林
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 高分辨电感耦合等离子体质谱 高纯镓 痕量元素 质谱干扰 基体效应 内标
• 年，卷（期）: 2006,（11）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1570-1574
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 3544字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2006.11.012

摘要

建立高分辨电感耦合等离子体质谱法(HR-ICP-MS)测定高纯镓样品中Be、Mg、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、As、Mo、Ag、Cd、In、Sb、Ba、Pb、Bi等痕量元素的方法.样品用HNO3+HCl经微波消解后,试液直接进样用HR-ICP-MS法同时测定上述元素,在高分辨质谱测量模式下避免了大量的质谱干扰,详细地研究了HCl和高纯镓所产生的基体效应,以Sc、Rh、Tl作为内标元素校正了基体效应,讨论和确定了实验的最佳测定条件.结果表明,23种痕量元素的检出限在0.001～0.21 μg/L之间;回收率在89.8%～111.6%之间,相对标准偏差(RSD)小于3.3%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐有根	中南大学化学化工学院应化系	159	1029	16.0	22.0
2	聂西度	湖南工学院化工系	62	303	10.0	13.0
3	谢华林	湖南工学院化工系	22	333	9.0	18.0