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摘要:
SiGe合金薄膜中的Ge含量度分布对材料的禁带宽度和制作器件的性能有十分重要的影响。本文用Li离子束卢瑟福背散射分析法对SiGe/Si和SiGe-OI材料样品进行了分析。与TEM,SEM、Raman等分析结果进行比较表明,Li离子束RBS分析可同时测量SiGe层厚度,Ge含量度其深度分布,Si过渡层和SiO2层厚度,并有较好的测量精度。
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文献信息
篇名 SiGe/Si和SGOI材料的Li离子束RBS分析
来源期刊 中国材料科技与设备 学科 工学
关键词 SIGE合金 RBS分析 SGOI
年,卷(期) 2006,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 61-63
页数 3页 分类号 TN322.8
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SIGE合金
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SGOI
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期刊影响力
中国材料科技与设备
双月刊
北京市回龙观文化大社区流星花园2区9-3
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