碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响

• 作者: 孙卓 曹章轶 郭平生 陈奕卫
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管(CNTs) 化学气相沉积(CVD) 扫描电镜(SEM) 透射电镜(TEM) 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 75-80
• 页数: 6页
• 分类号: TQ127
• 字数: 2973字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2006.01.013

摘要

采用低压化学气相沉积(LPCVD)在镍片上制备了厚度在400～1000μm范围的碳纳米管(CNTs)薄膜,研究了碳源(乙炔)流量对碳纳米管薄膜形貌和结构的影响.随乙炔流量的增加,碳纳米管薄膜厚度和产量增大.电子显微镜和拉曼光谱研究结果表明,在乙炔流量为10sccm下制备的碳纳米管直径分布范围最小(10～100nm),石墨化程度最高,缺陷密度最小,晶形最完整.随着乙炔流量的增大(30～90sccm),碳纳米管的直径分布范围增大(10～300nm),石墨化程度降低,缺陷密度增大,非晶化程度增加.因此,通过碳源流量可以控制碳纳米管薄膜的形貌和结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭平生	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	5	68	5.0	5.0
2	孙卓	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	39	200	8.0	11.0
3	陈奕卫	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	32	466	14.0	20.0
4	曹章轶	华东师范大学纳米功能材料和器件应用研究中心	2	9	2.0	2.0