沉积温度和碳纳米管对CVDSiC涂层微观形貌的影响

• 作者: 廖寄乔 张翔 李军 谭周建
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 炭/炭复合材料 CNT-SiC复合涂层 碳纳米管 CVD
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 511-515
• 分类号: TB332
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2010.05.018

摘要

以三氯甲基硅烷(CH3SiCl3)为前驱体,采用化学气相沉积法(Chemicalvapordeposition,CVD),在原位生长有碳纳米管(Carbonnanotubes,CNTs)的CIC复合材料表面制备Sic涂层.用扫描电镜(SEM)和X射线能谱仪(EDS)观察和分析涂层微观形貌及成份.研究沉积温度(1000～1150℃)对Sic涂层的表面、截面以及sic颗粒的微观形貌的影响.结果表明:在1000℃下反应时,得到晶须状Sic;沉积温度为1050℃时涂层平整、致密:沉积温度提高到1100℃时,涂层粗糙,致密度下降:1150℃下形成类似岛状组织,Sic颗粒团聚长大,涂层粗糙,并有很多裂纹和孔洞,致密度低.对涂层成份和断口形貌研究表明,基体和涂层之间有1个过渡区,Sic涂层和基体之间结合良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李军	中南大学粉末冶金国家重点实验室	169	978	16.0	24.0
2	张翔	中南大学粉末冶金国家重点实验室	16	98	6.0	9.0
3	廖寄乔	中南大学粉末冶金国家重点实验室	28	205	8.0	13.0
4	谭周建	中南大学粉末冶金国家重点实验室	6	25	4.0	4.0