基于印刷碳纳米管薄膜阴极的场发射显示器发光稳定性的提高

• 作者: 刘兴辉 刘卫华 曾凡光 朱长纯
• 来源期刊: 中国科学E辑
• 学科: 工学
• 关键词: 印刷碳纳米管薄膜 场发射显示器 发光稳定性 阴极共烧结工艺
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 页码范围: 507-514
• 页数: 8页
• 分类号: TN87
• 字数: 4914字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-9275.2006.05.005

摘要

针对印刷CNT薄膜中CNT与衬底的不良接触对发光稳定性的影响, 提出了一种可改善器件发光稳定性的阴极共烧结制造工艺. 通过对银浆印刷层和CNT印刷层采用的共烧结处理, 在CNT和银导电衬底接触部位可形成几何匹配或产生CNT镶嵌于银层的结构, 在薄膜顶部则形成CNT团聚物与银块互相嵌套的结构. 这些结构使CNT与银导电层的接触面积增加, 形成欧姆接触的可能性大大提高, 从而使采用共烧结阴极制造的器件在高亮度下的发光稳定性及寿命较采用普通阴极的器件提高5.6倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱长纯	西安交通大学电子与信息工程学院	215	2372	22.0	41.0
2	刘卫华	西安交通大学电子与信息工程学院	33	304	9.0	16.0
3	曾凡光	西安交通大学电子与信息工程学院	9	49	5.0	6.0
4	刘兴辉	西安交通大学电子与信息工程学院	12	88	5.0	9.0