高通光率金属网栅屏蔽效率分析的等效折射率模型

• 作者: 刘俭 谭久彬 金鹏 陆振刚
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电磁屏蔽 等效折射率模型 高通光率 金属网栅
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 949-954
• 页数: 6页
• 分类号: O441.4|TN973.32
• 字数: 3864字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2006.06.004

摘要

基于Ulrich半实验方法、LZ等效电抗模型和Kohin等效膜方法,建立了一种新型的高通光率金属网栅屏蔽效率分析的等效折射率模型.该模型精确地建立了金属网栅的等效折射率与其结构参数和边界材料折射率的关系,便于分析电磁波任意入射方向时的金属网栅屏蔽效率,并可克服Chen倾斜模型在分析高通光率金属网栅屏蔽效率时的失效问题.为验证建立模型的有效性,用紫外光刻法制备了周期320 μm、线宽4.5 μm和周期160 μm、线宽5.5 μm的两种网栅,并用微波网络分析仪测试了12～18 GHz波段的屏蔽效率.实验与分析表明:建立的新模型的原理计算误差＜2 dB,优于Chen模型和LZ模型的8 dB的原理计算误差和Ulrich模型的4 dB的原理计算误差,说明新模型能更精确地分析高通光率金属网栅的屏蔽效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谭久彬	哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所	140	2284	28.0	42.0
2	金鹏	哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所	15	98	5.0	9.0
3	陆振刚	哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所	2	20	2.0	2.0
4	刘俭	哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所	14	109	5.0	10.0