氧等离子体处理对ITO薄膜表面性能的影响

• 作者: 刘德明 刘陈 朱光喜
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: ITO 氧等离子体处理 原子力显微镜 表面形貌 润湿性
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 309-313
• 页数: 5页
• 分类号: TN383|O484.4
• 字数: 3393字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2006.04.004

摘要

利用原子力显微镜研究氧等离子体处理对ITO薄膜的微观表面形貌及表面润湿性能的影响.实验结果表明:经过氧等离子体处理,ITO薄膜的平均粗糙度和峰-谷粗糙度减小,薄膜的平整度提高;而且表面吸附力增大近一倍,表面能增大,接触角减小,使ITO薄膜表面的润湿性能和吸附性能得到改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘德明	华中科技大学光电子科学与工程学院	236	1645	17.0	27.0
2	朱光喜	华中科技大学电子与信息工程系	420	2897	22.0	35.0
3	刘陈	华中科技大学电子与信息工程系	27	371	10.0	18.0