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摘要:
采用纳米压印、反应离子辅助刻蚀及物理溅射技术制作了周期为150 nm的铝光栅,用分光光度计测量了样品的透过率随入射光偏振方向变化的关系以及在可见、近红外波段TE,TM波的透射光谱.利用严格耦合波理论对光栅的上述性能进行了数值模拟和理论分析.考察了斜入射情况下样品的性能及损耗随入射角的变化关系.理论和实验结果表明,光栅的透过率对入射光的偏振态十分敏感:在近红外范围内(1000~2000 nm)对TE波完全反射,对TM波具有90%的透过率,并且在斜入射时因入射角的增大而轻微加强.此外,还比较了不同金属材料光栅的TM波近红外透射特性,探讨了改善其性能的途径.
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文献信息
篇名 150 nm亚波长铝光栅的近红外偏振特性
来源期刊 中国激光 学科 物理学
关键词 光电子学 亚波长光栅 纳米压印 严格耦合波理论
年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目 激光物理与激光化学
研究方向 页码范围 467-471
页数 5页 分类号 O436.3
字数 2040字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.04.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李承芳 武汉大学物理科学与技术学院 33 405 11.0 19.0
2 张亮 武汉大学物理科学与技术学院 46 171 9.0 11.0
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中国激光
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31-1339/TN
大16开
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1974
chi
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