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150 nm亚波长铝光栅的近红外偏振特性
150 nm亚波长铝光栅的近红外偏振特性
作者:
张亮
李承芳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光电子学
亚波长光栅
纳米压印
严格耦合波理论
摘要:
采用纳米压印、反应离子辅助刻蚀及物理溅射技术制作了周期为150 nm的铝光栅,用分光光度计测量了样品的透过率随入射光偏振方向变化的关系以及在可见、近红外波段TE,TM波的透射光谱.利用严格耦合波理论对光栅的上述性能进行了数值模拟和理论分析.考察了斜入射情况下样品的性能及损耗随入射角的变化关系.理论和实验结果表明,光栅的透过率对入射光的偏振态十分敏感:在近红外范围内(1000~2000 nm)对TE波完全反射,对TM波具有90%的透过率,并且在斜入射时因入射角的增大而轻微加强.此外,还比较了不同金属材料光栅的TM波近红外透射特性,探讨了改善其性能的途径.
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文献信息
篇名
150 nm亚波长铝光栅的近红外偏振特性
来源期刊
中国激光
学科
物理学
关键词
光电子学
亚波长光栅
纳米压印
严格耦合波理论
年,卷(期)
2006,(4)
所属期刊栏目
激光物理与激光化学
研究方向
页码范围
467-471
页数
5页
分类号
O436.3
字数
2040字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0258-7025.2006.04.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李承芳
武汉大学物理科学与技术学院
33
405
11.0
19.0
2
张亮
武汉大学物理科学与技术学院
46
171
9.0
11.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
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节点文献
光电子学
亚波长光栅
纳米压印
严格耦合波理论
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国激光
主办单位:
中国光学学会
中科院上海光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7025
CN:
31-1339/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
邮发代号:
4-201
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
9993
总下载数(次)
26
总被引数(次)
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