基于Si3 N4 薄膜的压力传感器

• 作者: 张博军 方震 曾欢欢 王奇 耿照新 赵湛
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 学科: 工学
• 关键词: 微机电系统 压力传感器 氮化硅
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 设计与制造
• 页码范围: 71-73
• 页数: 3页
• 分类号: TP212
• 字数: 1587字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9787.2006.03.024

摘要

采用微机电系统(MEMS)技术制造的传感器具有体积小、重量轻、成本低等特点.基于Si3N4压力敏感膜,利用MEMS技术,设计了一种用于测量气压的传感器.采用应变电阻原理对压力进行测量,进行了理论分析计算,设计了工艺过程,制作出了器件样片.这种压力传感器的显著优点是结构简单、工艺过程容易.并且,在50～100 kPa的压力条件下,对传感器进行了测试,其精度达到了0.5 %.