单甲基原位改性SiO2疏水减反膜的制备与性能研究

• 作者: 吕海滨 吴东 孙予罕 张磊 徐耀 蒋晓东 赵松楠 魏晓峰 黄进
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 共水解缩聚 TEOS MTES 疏水性 减反膜 激光损伤
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1648-1652
• 页数: 5页
• 分类号: TN24
• 字数: 3867字
• 语种: 中文

摘要

在碱性条件下通过TEOS和MTES的共水解缩聚反应制备了单甲基原位改性的SiO2溶胶,并使用提拉法在K9玻璃基片上镀制了疏水减反膜.通过透射电镜(TEM)考察了镀膜溶胶的微结构,分别使用红外光谱(FTIR)分析了薄膜的组分,用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌和起伏状况,用紫外可见光谱(UV-vis)考察了薄膜的减反射性能,用接触角仪测量了薄膜对水的接触角.并使用"R-on-1"的方式测量了薄膜在Nd:YAG激光(1 064 nm,1 ns)作用下的损伤阈值.结果表明,通过共水解缩聚反应可以把甲基引入镀膜溶胶簇团中,改善了溶胶簇团的网络结构,使薄膜得到相当好的疏水性能和更好的抗激光损伤性能,同时薄膜能保持较好的减反射性能.