金/钆柱腔与金/钆CH柱腔的制备

• 作者: 何智兵 吴卫东 程丙勋 袁光辉 许华 陈志梅
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 化学
• 关键词: 制备参数 柱腔 多层膜结构 钆 金 溅射功率 原子半径 周期厚度
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 499-500
• 页数: 2页
• 分类号: O614.33

摘要

制备金／钆混合膜时，由于金/钆两者原子半径和电负性相差较大，不易形成大量的固溶体，内应力较大，金／钆混合膜极易破碎，为此采用制备金／钆多层膜的方法来减少薄膜的应力，解决金/钆膜破裂的问题。制备参数对薄膜的影响较大，研究了不同溅射压强、不同溅射功率、不同周期厚度和不同原子比的金／钆多层膜对多层膜结构的影响。