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摘要:
简介:某净化设备研究所研制的高纯特种电子气体一三氟化氮(NF3)填补了我国一项科研空白,现已扩建转化为工业化生产。该气体用于高能氟化氘化学激光器的氟源,微电子工业中蚀刻气体和清洗剂。正在开发的几种电子特种气体:(1)高纯六氟化钨.(2)高纯氘气。(3)高纯氨气。
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文献信息
篇名 特种电子气体一三氟化氮
来源期刊 试剂与精细化学品 学科 工学
关键词 电子气体 三氟化氮 工业化生产 化学激光器 微电子工业 净化设备 蚀刻气体 六氟化钨
年,卷(期) 2006,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 16
页数 1页 分类号 TQ116
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研究主题发展历程
节点文献
电子气体
三氟化氮
工业化生产
化学激光器
微电子工业
净化设备
蚀刻气体
六氟化钨
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
试剂与精细化学品
月刊
北京市东城区东四南大街160号
出版文献量(篇)
1815
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