石墨基体NiHCF薄膜的离子交换性能

• 作者: 刘世斌 孙彦平 张玫 樊彩梅 郝晓刚 马旭莉
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学控制离子交换 铁氰化镍膜 电沉积 毛细化学沉积
• 年，卷（期）: 2006,（z2）
• 页码范围: 249-253
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2006.z2.062

摘要

以石墨为基体材料,采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜.通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌,在1 mol/l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子,比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命;在1 mol/l(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+/K+的选择性.实验表明,石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子交换(ESIX)过程;两种方法制得的薄膜对Cs+均有较强的选择性,其中电沉积膜的再生速度高于化学沉积膜,而化学沉积膜的寿命高于电沉积膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘世斌	太原理工大学洁净化工研究所	123	602	13.0	18.0
2	孙彦平	太原理工大学洁净化工研究所	136	1387	19.0	29.0
3	郝晓刚	太原理工大学洁净化工研究所	138	831	15.0	22.0
4	樊彩梅	太原理工大学洁净化工研究所	105	1040	18.0	27.0
5	马旭莉	太原理工大学洁净化工研究所	22	87	7.0	9.0
6	张玫	太原理工大学洁净化工研究所	4	28	3.0	4.0