中间层Re的加入对覆膜钡钨阴极性能的改善

• 作者: 刘濮鲲 张明晨 张洪来 李玉涛
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 双层膜钡钨阴极 Os-W/Re膜 Os-W膜 薄膜开裂
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 6677-6683
• 页数: 7页
• 分类号: O4
• 字数: 4158字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.12.084

摘要

研究了一种新型的覆膜钡钨阴极--双层膜(Os-W/Re膜)钡钨阴极.对这种新型阴极的发射性能进行了测试,重点对其老炼前后表面薄膜的微观形貌进行了分析,表明中间层Re膜的加入使覆膜钡钨阴极的性能得到了改善.通过对Os-W双元合金膜钡钨阴极和Os-W/Re双层膜钡钨阴极发射特性的比较,发现Os-W/Re双层膜阴极的直流发射性能好于Os-W合金膜阴极.对两种阴极激活后发射表面的X射线光电子能谱分析表明,Os-W/Re双层膜阴极激活后表面形成的三元合金膜是其发射特性优于Os-W合金膜阴极的主要原因.应用扫描电子显微镜分析比较两种阴极激活老炼后的表面状态,结果表明:Os-W合金膜阴极在老炼一段时间后,其表面薄膜出现开裂,这会导致阴极发射均匀性下降;而Os-W/Re双层膜阴极在同样老炼条件下,发射表面薄膜均匀并保持完整,从而确保覆膜钡钨阴极发射均匀性和工作可靠性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘濮鲲	中国科学院电子学研究所	116	943	13.0	22.0
2	张明晨	中国科学院电子学研究所	7	81	5.0	7.0
3	张洪来	中国科学院电子学研究所	10	89	5.0	9.0
4	李玉涛	中国科学院电子学研究所	5	53	3.0	5.0