纳米氮化硅在提高PS版耐磨性中的应用研究

• 作者: 吕彤 秦瑞平 赵艳芳
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米氮化硅 PS版耐磨性 反射密度
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 应用与发展
• 页码范围: 156-160
• 页数: 5页
• 分类号: TQ57
• 字数: 2044字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2007.02.011

摘要

测试了纳米氮化硅可以使阳图PS版耐磨性提高30%,对感光度和分辨率没有影响.将＜20 nm氮化硅(O.0%-2.0%质量分数)超声波分散在混合溶剂中,再依次投入成膜树脂和光敏剂配制成感光胶,经离心涂布在(砂目Ra=0.65)铝版基上干燥后,晒版,显影,磨版.由反射密度的损失量评定印版耐磨性,由扫描电镜观察氮化硅纳米粒子在版面的状态.氮化硅质量分数为0.15%时耐印效果最好,大于2.0%时由SEM观察到团聚现象,印刷力下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕彤	天津工业大学应用化学系	52	419	12.0	16.0
2	赵艳芳		5	57	4.0	5.0
3	秦瑞平	天津工业大学应用化学系	3	4	1.0	2.0