电子束曝光控制软件系统设计与实现

• 作者: 宋志 张今朝 韩立 魏淑华
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光 控制软件 版图设计 拼接 套刻
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7|TP319
• 字数: 3500字
• 语种: 中文

摘要

电子束曝光系统作为复杂半导体加工设备,需要功能强健的控制软件系统来保证其正常运行.介绍了具有自主版权的EB(electron beam)writer电子束曝光控制软件系统,它由版图绘制模块、对准控制模块和曝光控制模块组成,利用VC++6.0开发环境实现.实验结果表明.该软件系统可实现微光刻及微纳加工版图的绘制编辑和电子束曝光全过程的控制,且具有可扩展性,特别适用于各种由电子显微镜升级改造的电子束曝光系统.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏淑华	中国科学院电工研究所	4	9	2.0	3.0
5	张今朝	中国科学院电工研究所	8	16	2.0	3.0
6	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
7	宋志	中国科学院电工研究所	7	23	2.0	4.0