HMX与含硼化合物相互作用的理论计算

• 作者: 李金山 黄辉
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 含硼化合物 键合剂 HMX 分子间相互作用
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 106-110
• 页数: 5页
• 分类号: O641.3|TB564.4
• 字数: 2165字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2007.01.020

摘要

在PBX体系中加入合适的键合剂通常能改善HMX与高聚物的界面作用.为了预测其界面作用强度及粘合效果,本文采用B3LYP密度泛函方法和6-31G*基组计算HMX与含硼化合物BR1R2R3的相互作用.优化得到了存在B…O相互作用的HMX…BR1R2R3复合物的几何构型.计算结果表明,HMX…BH3和HMX…BH2(CH3)中的B与O原子间相互作用强,二者分子间相互作用能在MP2/6-31++G**//B3LYP/6-31G*水平上分别为-65.3 kJ/mol和-40.2 kJ/mol.由于空间位阻效应HMX中的O原子与BH(CH3)2、B(CH3)3和B(OH)(CH3)(CH2NH2)中的B原子距离大于3(A).理论计算结果与实验结果基本一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄辉	南京理工大学化工学院	100	1362	21.0	32.0
3	李金山	中国工程物理研究院化工材料研究所	100	1481	23.0	32.0