基于X光光刻的亚波长光栅

• 作者: 杉山进 李以贵
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 亚波长光栅 X光光刻 高深宽比
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 249-252
• 页数: 4页
• 分类号: TN205
• 字数: 2031字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2007.04.004

摘要

描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即X光光刻得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长光栅.用此纳米加工技术获得了栅距为500nm、250nm、150nm,光栅高度为1900nm的特殊纳米光栅模具,开发了纳米无反射结构,并研制成功了亚波长光栅.该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、DVD读写头、无反射表面等需要亚微米结构的器件中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李以贵	上海交通大学微纳米科学技术研究院	19	120	7.0	10.0