光纤连接器端面研抛机轨迹分析及均匀研抛机理研究

• 作者: 刘德福 李作浩 段吉安
• 来源期刊: 机械科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 研抛轨迹 次摆线 均匀研抛
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 72-76
• 页数: 5页
• 分类号: TH112.3
• 字数: 4096字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-8728.2007.01.017

摘要

分析了一种光纤连接器端面研抛机的运动原理.推导出工件相对于研磨盘的运动轨迹S1和研磨盘相对于工件的运动轨迹S2的表达式,得出S1、S2均为次摆线,分析了轨迹随相关参数的变化规律.对于S1,次外和次内摆线的分界点为速比Ⅰ=1.研究了工件均匀研抛和砂纸均匀磨损的机理,即相对轨迹弧长S对相应半径R的微分dS/dR应与R成线性关系,推导出相应线性系数k的表达式,并通过单因素试验法求出优化参数配置.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段吉安	中南大学机电工程学院	107	973	17.0	24.0
2	刘德福	中南大学机电工程学院	29	274	10.0	16.0
3	李作浩	中南大学机电工程学院	1	1	1.0	1.0