甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷改性SiO2的制备

• 作者: 姜立忠 战佳宇 武德珍 金日光
• 来源期刊: 北京化工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 原位一步法 甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS) 单分散 纳米二氧化硅
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 287-289
• 页数: 3页
• 分类号: TQ127.2
• 字数: 2205字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4628.2007.03.016

摘要

采用原位一步法制备了表面甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS)改性的单分散纳米二氧化硅(SiO2)粒子.该过程将纳米SiO2的缩合形成过程与功能化改性同步进行,并用红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、热失重分析(TGA)等测试方法研究了粒子的表面化学结构、形态和分散性以及粒子中MPS的含量.结果表明,原位一步法制备的MPS改性纳米SiO2粒子粒径约75nm,基本上呈单分散状态,且含有大量的MPS功能性基团,其表面密度为3.45μmol/m2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武德珍	北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室	84	660	14.0	21.0
2	金日光	北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室	168	1604	22.0	33.0
3	姜立忠	北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室	5	54	4.0	5.0
4	战佳宇	北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室	2	25	2.0	2.0