Pt在Ni(Pt)-Si-O固相反应中的影响

• 作者: CHI Dongzhi 任卫
• 来源期刊: 复旦学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 镍硅化物 固相反应 快速热处理 扩散 二次离子质谱
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 318-323
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 456字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0427-7104.2007.03.011

摘要

深亚微米尺度(90 nm)下,对在金属Ni膜中加入微量Pt,再经过高温退火形成NiSi.对该固相反应的反应序列进行了研究.研究发现Ni2Si-to-NiSi转变温度由300 ℃提高到350 ℃;NiSi-to-NiSi2转变温度由640 ℃提高到775 ℃;而且,NiSi薄膜的形貌在750 ℃才开始发生Agglomeration现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任卫	上海理工大学理学院	1	0	0.0	0.0