微盲孔填充及通孔金属化：技术选择及解决方案

• 作者: J.Rasmussen H.Verbunt D.lsik
• 来源期刊: 印制电路资讯
• 学科: 工学
• 关键词: 技术选择 孔金属化 微盲孔 填充 脉冲电镀技术 印制线路板 控制流程 高密度互连
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TN41

摘要

电子产品向轻、薄、短、微型化的发展趋势要求印制线路板及包装材料的空间体积向更小型化发展，高密度互连（HDI）技术已经成为发展的必然趋势。线路板的功能可靠性很大程度上取决于直接金属化、微盲孔填充及通孔金属化的品质。 为改善流程的性能，人们往往会提高工艺流程的复杂程度，使用不同类型的添加剂，这使流程更加难以控制。另外，PPR脉冲电镀技术作为一种解决方案已被应用，最终还是要通过功能性化学品的氧化还原保护作用来维持添加剂的稳定性。 一项新的技术已经问世，此技术简单而又能有效地控制流程，可实现微孔填充与通孔金属化同步进行，已经在整板电镀和图形电镀的应用中得到了证实与认可。该技术可应用于传统垂直起落的浸入式直流电镀生产线。另外，此项新技术添加剂的使用量少，从而延长了镀液使用寿命，流程品质也易于管理与控制。