短脉冲激光刻蚀加工铜材料的机制

• 作者: 刘世炳 刘院省 陈涛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 皮秒脉冲激光 铜靶 平衡刻蚀 数值模拟
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1271-1274
• 页数: 4页
• 分类号: O532|TN249
• 字数: 3398字
• 语种: 中文

摘要

利用数值模拟方法,研究波长1 064 nm、脉冲宽度介于1～20 ps的激光在刻蚀铜靶时,单次脉冲作用下非平衡场刻蚀和热平衡刻蚀两种机制的竞争过程.结果表明:随着脉冲宽度的增加,刻蚀过程由非平衡电荷分离场刻蚀占主导地位转变为热平衡刻蚀起主要作用,且脉冲宽度和激光峰值功率密度增大到一定程度后,各种电子加速机制在不同时刻开始突显,电子能量分布出现多峰结构.在能量密度为15 J/cm2的激光作用下,1和5 ps脉宽对应的非平衡场刻蚀深度分别为110和101 nm,10和20 ps脉宽分别为25和18 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈涛	北京工业大学激光工程研究院	77	383	12.0	17.0
2	刘世炳	北京工业大学激光工程研究院	33	139	7.0	10.0
3	刘院省	北京工业大学激光工程研究院	6	12	1.0	3.0