稳恒强磁场对Al-Cu扩散偶界面中间相形成和生长的影响

• 作者: 任晓 周文龙 张俊善 陈国清 黄朝晖
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 稳恒强磁场 Al-Cu扩散偶 中间相 扩散
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 工艺
• 页码范围: 41-44,78
• 页数: 5页
• 分类号: TG111.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2007.08.010

摘要

研究了稳恒强磁场作用下Al-Cu扩散偶界面中间相组成和扩散行为.结果表明:强磁场作用下扩散偶中间相厚度显著增加,并且随磁场强度增大,界面中间相组成发生变化.按照抛物线规律计算了强磁场作用下扩散偶中间相的扩散系数,发现在平行和垂直于磁场的两个方向上扩散系数有显著差异,垂直于磁场方向的扩散系数比平行于磁场方向更大.强磁场促进了Al-Cu扩散偶中Al和Cu原子的扩散,加速了界面中间相的形成和生长过程.磁场作用差异导致了扩散的各向异性.利用原子扩散理论初步分析了产生上述现象的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈国清	大连理工大学材料科学与工程学院	59	420	11.0	16.0
2	周文龙	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	94	698	14.0	20.0
6	任晓	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	6	88	4.0	6.0
10	张俊善	大连理工大学材料科学与工程学院	39	290	10.0	15.0
11	黄朝晖		19	171	7.0	12.0