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摘要:
Thick GaN films with high quality are directly grown on sapphire in a home-built vertical hydride vapour phase epitaxy (HVPE) reactor. The optical and structural properties of large scale columnar domains near the interface are studied using cathodoluminescence and micro-Raman scattering. These columnar domains show a strong emission intensity due to extremely high free carrier concentration up to 2 × 1019 cm-3, which are related with impurities trapped in structural defects. The compressive stress in GaN film clearly decreases with increasing distance from interface. The quasi-continuous columnar domains play an important role in the stress relaxation for the upper high quality layer.
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篇名 Columnar Structures and Stress Relaxation in Thick GaN Films Grown on Sapphire by HVPE
来源期刊 中国物理快报(英文版) 学科
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年,卷(期) 2007,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 822-824
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中国物理快报(英文版)
月刊
0256-307X
11-1959/O4
16开
北京中关村中国科学院物理研究所内
1984
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