纳米Si镶嵌SiNx薄膜实现Nd∶YAG激光器被动锁模

• 作者: 吕蓬 李立卫 王加贤 郭亨群
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 纳米硅 被动锁模 双光子吸收
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 1498-1501
• 页数: 4页
• 分类号: TN248.1
• 字数: 3132字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2007.11.008

摘要

采用射频磁控溅射技术和热退火处理技术制备了石英衬底的纳米Si镶嵌SiNx薄膜(nc-Si-SiNx),薄膜厚度为200 nm.由X射线衍射(XRD)谱计算得出,经800℃连续3 h退火的薄膜中的Si晶粒平均尺寸为1.7 nm.把纳米Si镶嵌SiNx薄膜作为可饱和吸收体插入闪光灯抽运的平凹腔Nd∶YAG激光器内,实现1.06 μm激光的被动锁模运转.当激光器腔长为120 cm时,获得平均脉冲宽度32 ps,输出能量25 mJ的单脉冲序列,脉冲序列的包络时间约480 ns,锁模调制深度接近100%.量子限域效应使得纳米Si的能隙宽度大于1.06 μm光子能量,所以双光子饱和吸收和光生载流子的快速能量弛豫是导致纳米Si镶嵌SiNx薄膜实现1.06 μm激光被动锁模的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王加贤	华侨大学信息科学与工程学院	81	268	9.0	12.0
2	郭亨群	华侨大学信息科学与工程学院	40	180	8.0	11.0
3	吕蓬	华侨大学信息科学与工程学院	7	29	4.0	5.0
4	李立卫	华侨大学信息科学与工程学院	7	32	4.0	5.0