2-甲基吡啶的槽内式间接电氧化

• 作者: 张恒彬 张玉敏 曹学静 李克昌
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 2-甲基吡啶 2-吡啶甲酸 Cr2O2-7/Cr3+ 间接电氧化
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 页码范围: 1747-1750
• 页数: 4页
• 分类号: O646
• 字数: 2886字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2007.09.023

摘要

在质子交换膜为隔膜的电解槽内,以2-甲基吡啶为原料,以Cr2O2-7/Cr3+为媒质,采用间接电氧化法研究了合成2-吡啶甲酸的反应条件.实验结果表明,硫酸浓度、硫酸铬浓度、反应温度、2-甲基吡啶浓度和阳极电位对产率、转化率、选择性和电流效率均有影响.通过变化规律的研究,找到了各个影响因素的最佳条件为: 硫酸浓度为6.0 mol/L,反应温度为60 ℃,硫酸铬浓度为0.15 mol/L,2-甲基吡啶浓度为0.1 mol/L,阳极电位为1.50 V.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张恒彬	吉林大学化学学院	51	523	12.0	20.0
2	曹学静	吉林大学化学学院	29	197	8.0	11.0
3	李克昌	吉林大学化学学院	19	102	6.0	8.0
4	张玉敏	吉林大学化学学院	41	168	7.0	9.0