表面活性剂Bi对自旋阀多层膜交换耦合场的影响及其微结构分析

• 作者: 丁雷 于广华 朱熠 李明华 杜中美 滕蛟 蔡永香
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 表面活性剂 自旋阀多层膜 交换耦合场 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 冶金与材料
• 页码范围: 517-521
• 页数: 5页
• 分类号: TM271|O484.4
• 字数: 3723字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2008.05.013

摘要

采用磁控溅射方法制备了Ta(10nm)/NiFe(8nm)/Cu(2.6nm)/NiFe(3.6nm)/FeMn(9nm)/Ta(10nm)自旋阀多层膜. 在Cu/NiFe界面沉积适量厚度的Bi原子能够有效地提高交换耦合场,沉积过量的Bi原子会导致交换耦合场下降. X射线光电子能谱分析结果表明:沉积在Cu/NiFe界面的Bi原子可以有效地抑制Cu原子在NiFe层表面的偏聚;当沉积过量的Bi原子时,Bi原子会进一步迁移到FeMn中,形成杂质,从而破坏了FeMn的反铁磁性,使交换耦合场降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料科学与工程学院	88	372	9.0	14.0
2	李明华	北京科技大学材料科学与工程学院	21	50	4.0	5.0
3	杜中美	北京科技大学材料科学与工程学院	3	12	2.0	3.0
4	滕蛟	北京科技大学材料科学与工程学院	37	132	6.0	9.0
5	蔡永香	北京科技大学材料科学与工程学院	8	51	3.0	7.0
7	丁雷	北京科技大学材料科学与工程学院	4	17	2.0	4.0
10	朱熠	北京科技大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0