质子照相磁透镜的优化设计

• 作者: 何小中 刘承俊 杨国君
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 质子照相 磁透镜 优化 视场
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 297-300
• 页数: 4页
• 分类号: O434.1
• 字数: 2474字
• 语种: 中文

摘要

对质子照相系统中Zumbro磁透镜的参数进行了优化,使成像系统造成的图像模糊最小化,结果表明:构成Zumbro磁透镜的四极透镜对内外漂移段长度相等时,成像系统获得最小的图像模糊.对成像系统的视场进行了分析,表明视场对Zumbro透镜的参数不敏感.给出了质子能量为20 GeV时Zumbro透镜的参数,Geant4蒙特卡罗计算表明:所给的Zumbro透镜参数能正确成像.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨国君	中国工程物理研究院流体物理研究所	33	121	6.0	9.0
2	何小中	中国工程物理研究院流体物理研究所	26	38	4.0	4.0
3	刘承俊	中国工程物理研究院流体物理研究所	14	116	6.0	10.0