质子照相中成像磁透镜系统对次级质子的消除

• 作者: 刘军 刘进 施将君 章林文
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 医学
• 关键词: 质子照相 成像磁透镜系统 次级质子 消除
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 3031-3033
• 分类号: O434.1|R814.3
• 字数: 2082字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20102212.3031

摘要

为了解成像磁透镜系统使用对提高质子照相品质的作用,研究了成像磁透镜系统对核反应产生的次级质子的消除作用.利用MCNPX模拟了次级质子的能谱,结果表明:次级质子的平均能量不足照相质子束的50%.从次级质子的能量特性和成像系统质子运动学方面的分析表明:成像磁透镜系统可消除次级质子的影响.利用程序MCNPX对含成像磁透镜系统的质子照相进行了模拟,结果显示:成像磁透镜系统将次级质子对光程的影响减小到2%以下,显著提高了图像品质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘军	中国工程物理研究院流体物理研究所	90	351	11.0	14.0
2	刘进	中国工程物理研究院流体物理研究所	54	213	9.0	12.0
3	施将君	中国工程物理研究院流体物理研究所	37	191	9.0	12.0
4	章林文	中国工程物理研究院流体物理研究所	72	415	12.0	16.0