高能质子照相的成像方程

• 作者: 刘军 刘进 张绚 施将君 景越峰 章林文
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 医学
• 关键词: 高能质子照相 理论公式 弹性散射 高斯近似
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 104001-1-101001-6
• 页数: 1页
• 分类号: O434.1|R814.3
• 字数: 4113字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201426.104001

摘要

与 X 射线闪光照相相比，GeV 级质子照相因质子的穿透能力更强而更能满足流体动力学最佳光程、更小不确定度的要求。质子照相用于提取阴影客体信息的过程比 X 射线闪光照相复杂。为了便于分析质子照相过程及其特性，以质子照相的输运过程为基础，逐步考虑了质子与物质相互作用的各种过程---核反应、多次库仑散射、准弹性散射和弹性散射，并获得含各种过程的质子照相理论计算表达式。在含准直的系统中，理论计算公式中包含了多次弹性散射和准弹性散射项。通过与 QMCPrad 计算结果的对比得知弹性散射高斯近似下的理论计算结果与蒙特卡罗方法（MC）计算结果一致，与更准确的“黑体”模型的相对误差为3％～5％。这意味着在某种程序上，当研究质子照相规律或设计系统时，高能质子照相的理论计算公式能够替代MC 模拟。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘军	中国工程物理研究院流体物理研究所	90	351	11.0	14.0
2	刘进	中国工程物理研究院流体物理研究所	54	213	9.0	12.0
3	景越峰	中国工程物理研究院流体物理研究所	34	97	6.0	7.0
4	施将君	中国工程物理研究院流体物理研究所	37	191	9.0	12.0
5	章林文	中国工程物理研究院流体物理研究所	72	415	12.0	16.0
6	张绚	中国工程物理研究院流体物理研究所	15	23	3.0	3.0