等离子体加工光学元件工艺研究

• 作者: 杭凌侠 王颖男 胡敏达
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 超光滑表面 等离子体抛光 电容耦合放电 表面粗糙度 去除速率
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 51-53
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2171字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.018

摘要

为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术--等离子体抛光.介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理,在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验,对影响去除效果的参数进行了实验研究,最后进行工艺参数优化.结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杭凌侠	西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室	93	777	15.0	22.0
2	王颖男	西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室	1	13	1.0	1.0
3	胡敏达	西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室	2	19	2.0	2.0